臺大工學院簡訊

　　本研究探討新型Ti₂₀Zr₁₅Hf₁₅Ni₃₅Cu₁₅ 高熵形狀記憶合金於不同時效條件下之相生成與顯微結構變化，為第一篇深入探究TiZrHfNiCu高熵形狀記憶合金系統之熱處理與顯微結構的重要研究，研究結果統整於圖1與圖２。本研究中發現Ti₂₀Zr₁₅Hf₁₅Ni₃₅Cu₁₅ 高熵形狀記憶合金於400 °C至800 °C進行熱處理將產生複雜之析出現象及顯微結構變化。當熱處理溫度低於500 °C時，材料中將產生奈米級H相析出，且其應力場具有壓抑麻田散體相變態之效果，造成相變態溫度降低。另一方面，當熱處理溫度為600 °C時，材料內發生共析反應，並產生 (Zr,Hf)₇Cu₁₀與Ti₂Cu之層狀組織。提高處理溫度至700 °C則造成原Ti₂Ni相周遭產生反應，生成一層新生之同方位Ti₂Ni，並在其外層產生一層(Zr,Hf)₇Cu₁₀相。研究結果顯示於不同處理條件下，Ti₂₀Zr₁₅Hf₁₅Ni₃₅Cu₁₅ 高熵形狀記憶合金會產生Ｈ相析出、共析分解或(Zr,Hf)₇Cu₁₀生成等各式反應，使該材料之顯微結構具有大幅度之可控性，提供進一步調整TiZrHfNiCu高熵形狀記憶合金系統性能之重要方法。（機械系陳志軒教授提供）

 

 

 

圖1 Ti₂₀Zr₁₅Hf₁₅Ni₃₅Cu₁₅ 高熵形狀記憶合金於不同時效條件下之顯微結構影像。

 

 

 

 

圖2 Ti₂₀Zr₁₅Hf₁₅Ni₃₅Cu₁₅高熵形狀記憶合金於不同時效溫度下之顯微結構統整。